標準型磁控濺射臺

詳細描述


本產品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種金屬、非金屬,單層、多層膜。它具有均勻性好、濺射速率高、基片升溫低、靶材節省等特點。

本設備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領域的器件研發和制造。



產品主要性能指標


本產品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種金屬、非金屬,單層、多層膜。它具有均勻性好、濺射速率高、基片升溫低、靶材節省等特點。 本設備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領域的器件研發和制造。

本網站由阿里云提供云計算及安全服務
信誉捕鱼棋牌游戏平台 吉林11选5开奖结果 2008年排列5走势图 福建十一选五预测 贵州快3走势图基本走势图 安徽快三遗漏数据 浙江省11选5五码走势图 青岛啤酒股票分析论文股票分析论文 赌博运气规律 11选5下期推算方法 投资理财平台力荐.中欧钱滚滚